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Hochdruck-Photoreactor

Hochdruck-Photoreactor
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Produkt - Details

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Hochdruck photochemische Reaktion Apparat

Mit dem gründlichen Studium der photochemischen Reaktion, hoher Druck in eine geschlossene Art photochemische Reaktion wird zunehmend von der Mehrheit der Kunden bevorzugt, das Gerät besteht hauptsächlich aus verschiedenen Lichtquelle Gerät, Edelstahl-Reaktionsgefäß, PTFE-Sätze, Druck-Quarzglas, Filter, magnetische rühren Gerät, Camera Obscura, Druck-pneumatische Rohrleitung-Schutz-Reaktion, Konstante Temperatur im Umlauf Gerät etc... Gestaltung der Hauptseite photochemische, Photokatalyse, leichte Verschlechterung, organische Chemie, Phase, Gas-Liquid-Phase-Reaktion-Gas, kann auch für die fest-flüssig-Phase, Gas-Phase-Reaktion verwendet werden, realisieren die volle Reaktion Gas- und Material, die maximale Spannung des 2.0MPA, können auch weitere Hochdruck-Reaktor, Online-Erkennung mit Gaschromatograph angepasst. Die Ausrüstung kann in Echtzeit, dieses System hat, einfache Struktur, vernünftig, bequeme Bedienung, stabiler Betrieb, den Schutz der menschlichen, freie Kombination, die einzigartigen Vorteile wie z. B. flexible Änderung. (TheTOPTION exklusive Fabrikdaten jede inländische Hersteller Verwendung nicht autorisieren, die Plagiate werden beschrieben, bitte respektieren Sie die Rechte an geistigem Eigentum)

Technische Daten:

Hochdruck photochemische Reaktion Apparat


Modell

TPR-HP150

TPR-HP300

TPR-HP500

TPR-HP1000

Lichtquelle-Typ

Xenon/Quecksilber-Lampe

Xenon/Quecksilber-Lampe

Xenon/Quecksilber-Lampe

Xenon/Quecksilber-Lampe

Lichtquelle macht

500W

500W

10502

1500W

Lebensdauer der Lichtquelle

1000H

1000H

1000H

1000H

Strahlung-Merkmale

Punktquellen

Punktquellen

Punktquellen

Punktquellen

Bestrahlung-Durchmesser

80MM

80MM

80MM

100MM

Kühlsystem

3 starke Kühler

3 starke Kühler

3 starke Kühler

3 starke Kühler

Leichten Druck-Fenster

Intron

Intron

Intron

Intron

Magnetische rühren Apparat

Intron

Intron

Intron

Intron

Anheben der Plattform

Intron

Intron

Intron

Intron

Das Hauptmaterial

der das Reaktionsgefäß

Edelstahl 316L

Edelstahl 316L

Edelstahl 316L

Edelstahl 316L

Einzigen Korrosion PTFE

innere Kapazität

150ML

300ML

500ML

1000ML

Jacke-Typ korrosionsbeständig

PTFE-innere Kapazität (optional)

150ML

300ML

500ML

1000ML

Entwurf-Druck (optional)

2KG / 5KG / 10KG / 20KG

2KG / 5KG / 10KG / 20KG

2KG / 5KG / 10KG / 20KG

2KG / 5KG / 10KG / 20KG

Photochemischer Reaktor / UV photochemische Reaktion Apparat optionale Komponenten:


Der Name der Komponente

Technische Daten

Hohe und niedrige Hochtemperatur-Thermostat

-120℃ ~ 300℃, kann angepasst werden

Überdruck-Freigabe-Gas-Schutzeinrichtung

Kann angepasst werden

Taylor-Norm-Sieb

Kann angepasst werden


TOPTION ist spezialisiert auf die Herstellung und Verkauf photochemische Glas Reaktor, UV-Glas-Reaktor-System, Xenon Glas Reaktor, einschichtige Glas Reaktor, zweischichtige Glas Reaktor, Reaktor drei-Schicht-Glas, Thermostat Ausrüstung, Eismaschine, Ultraschallgerät, spray Fön, selbstextrahierenden Gerät und so weiter.

Mit 11-Yaeas Erfahrung und nach 8 Jahren entwickeln wir in- und ausländische Marktanteil gewonnen und genossen guten Ruf in der Branche hat, unsere Produkte auf vielen Universität und wissenschaftlichen Forschungseinrichtungen in vielen Bereichen angewendet werden.  Wir können auch die Art der Anlagen je nach Ihren Anforderungen produzieren. Wir glauben, dass die Qualität Sie nicht enttäuschen wird. TOPTION Firma Custimezed können verschiedene Spezifikationen der Glas-Reaktor-System, wir glauben, dass "TOPTION" werden Ihre "TOP-OPTION".

Willkommen Sie bei Design angepasst! Pls nicht kontaktieren Sie uns, Willkommen!!!


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